ATTO10-RS 高真空电阻热蒸发&磁控溅射镀膜机

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真空镀膜室
描述		材料：不锈钢1.4301 (SUS type 304), 厚度 5mm，所有焊缝连接均采用氩弧自动焊接技术；内表面镜面抛光，外表面三项处理。尺寸: Φ400×H450mm；
体积		0.056m³
观察窗		门上配备玻璃观察窗（含防污染挡板），方便观察工作时的工作情况。符合X射线防护国家标准
极限真空		≤6. 67x10^-5pa （2×10-7Torr） (经烘烤除气后）
恢复真空时间		≤6.67X10^-4 pa(经烘烤除气后）
接口		标准接口三个(φ200)，拓展安装分子泵和插板阀用；
接口		预留标准接口四个（CF35），拓展功能用；
照明		LED照明位于真空室侧部，方便观察真空室内部
泄漏率		检漏依据GB T 32218-2015对箱体进行检测，≤1x10-10PaL/s的标准进行最终验收测试。
真空系统
描述		采用 “分子泵+机械泵”高真空系统:
分子泵		抽速：1200L/S，真正的准无油真空系统，采用下抽气，避免了分子泵的抽气弱点，提高了抽速；分子泵保修5年，提供损坏直接换新服务。 * 可选择进口分子泵
真空泵		规格：旋片真空泵, 配带油雾过滤器, 带气镇控制流量：36 m³/h (21 cfm), 双基片,真空度< 2 x 10^-3 mbar 或干泵(可供选择) * 可选配干式真空泵
工作电压		AC 230 V / 50-60 Hz, 10 A 或AC 115 V / 50-60 Hz, 20 A （可供选择）
抽速		从大气抽至9×10^-4Pa≤30min（短时间暴露大气，冲入干燥氮气后开始抽气）
阀门		主阀：CC-200,高真空电气联动插板阀；前级阀/旁路阀：GDQ-40高真空气动挡板阀；
真空测量		“两低一高”（两只电阻规测量低真空，一只电离规测量高真空）数显复合真空计，测量范围从1×10⁵Pa到1×10^-5Pa；由PC显示和控制，可实现操作互锁联动。 * 可选配进口宽量程真空变送器
真空测量		部分采用金属密封，部分采用氟橡胶圈密封；
基片台
描述		放置样品的载物台采用304不锈钢制造，基片置于蒸发源正上方(全自动升降功能)，根据基片尺寸设计工装，方便用户固定样品。可定制一体化高精度刻蚀掩膜板；
旋转		采用步进电机控制驱动旋转，磁流体密封，电机和磁流体同轴，不会产生丢转、爬行等情况，步进电机控制精确，转速范围0-30rpm连续可调；
升降		采用步进电机控制驱动旋转，磁流体密封，控制精确，高度范围0-100mm连续可调；
掩膜		抽屉式结构，承载最大小于120×120mm 样品，配日本SMC气动基片挡板，电气联动全自动控制。
镀膜源
金属蒸发源	结构	采用水冷铜电极+蒸发舟结构，蒸发源间均设有防污染隔板且每个源均配有定位挡板，智能PC控制；
金属蒸发源	蒸发温度	室温0~1300℃
金属蒸发电源	输出功率	0~3000W ，电流通过逆变式调控，稳定可靠。电源功率在0~最大功率之间连续可调。
	控制	RS-485接口，电源功率在0-最大功率之间连续可调。
	数量	2台，自动切换控制
2"永磁磁控溅射靶 (靶材尺寸直径50.8mm)	结构	向心溅射，磁控靶与样品的距离90～140mm 可调，各靶有良好的水冷且DC/RF/MF兼容；电动控制挡板组件：1套配有屏蔽罩，以避免靶材之间的交叉污染(非共溅时安装使用)；可折向上面的样品中心，靶与样品距离可调；
	电源	PID智能温控蒸发电源，带有蒸发源测温和功率调整系统，可以进行实时测温与控温，温度控制精度±1℃。
	数量	2台
射频(RF)溅射电源	功率	0~600W
	控制	RS-485接口，电源功率在0-最大功率之间连续可调。
	数量	2台
直流溅射电源	输出功率	0-1000W
	控制	RS-485接口，电源功率在0-最大功率之间连续可调。
	数量	1台
直流偏压电源	描述	0~1000W
	控制	RS-485接口，电源功率在0-最大功率之间连续可调。
	数量	1台
离子源	离子能量	40~200EV
	离子速流	1A以上
	速流面积	30度半角
	数量	1台
气路系统	描述	工艺气体，氩气（50SCCM）、氧气（20SCCM）气体质量流量控制及显示各一路。
	控制	PID智能控制，配相应截止阀及管路等。
	数量	2路
控制系统
描述		采用windows操作平台和cotrl2000控制系统，采用IPC+network技术，实现整机主要部件的参数化设置、实施实时监控及故障智能诊断以及膜厚全自动监控，有自动和手动控制两种模式。除取放样品外，其它操作过程全部在PC上使用软件控制；提供真空系统、工艺设置、充放气系统等友好人机操作界面；在工控机上可通过配方设置参数，实现对程序工艺过程和设备参数的设置、储存和打印。
特点		能够有效解决镀膜的准确、稳定和可靠性。完善的程序互锁，完备的防误操作设计及保护；系统缺水、过流过压等异常情况进行报警并执行相应保护措施。采用丰富I/O接口设计，充分满足扩展与外连设备的功能需求。显示控制镀膜机的舱门开启/关闭。镀膜工艺、工序、膜厚，方便并且保存打印。
膜厚监测、控制系统
描述		采用石英晶振膜厚控制仪，水冷膜厚探头安装在基片台附近，工控机连接。膜厚仪用以实时监测镀膜速率和终厚，精度可达±1A（0.1nm）,实时信息反馈给工控机 ,若镀膜达到设置厚度,可自动控制电源,停止镀膜,实现自控膜厚之目的。
范围		监测厚度范围：1Å～99µ9999Å，分辨率1Å；监测速率范围：0.1Å～9999.9Å.S/s，分辨率0.1Å
特点		镀膜工艺、工序、膜厚设置均在PC上，可实现全过程自动化控制，可在PC上设定镀膜工艺，记录数据。
水冷系统
描述		冷却水路8进8出，总进水采用水压继电器控制。总进水与出水接1P制冷循环水机，控温范围10–25 ℃。给靶、金属源、分子泵、磁流体提供稳定的制冷循环水，保证设备稳定运行。
选配设备
基片台	加热	采用真空专用铠装加热丝，避免了传统加热元件污染真空室、污染基片、寿命短、需经常维护等问题。加热温度为：室温~300℃，温度控制采用进口日本岛电PID智能温控仪，控温精度±1℃。
	水冷	采用步进电机控制驱动旋转，动密封，一进一出水流。
	液氮冷却	专利产品：采用步进电机控制驱动旋转，磁流体密封，电机和磁流体同轴，实测温度-160 ℃
	选片镀膜	专利产品：任意选片镀膜，归位自动转移对齐, 可调沉积高度。
	自动配位镀膜	专利产品：选片无级配选镀膜功能，回零归位自动转移对齐, 可调沉积高度
	无级翻转和旋转	专利产品：实现基片的横向和竖向旋转，无级旋转和加热，可实现高均匀度的镀膜。
3"永磁控溅射靶（靶材尺寸D76.2mm）		向心溅射，磁控靶与样品的距离90～110mm 可调，有良好的水冷且DC/RF/MF兼容
2"强磁控溅射靶（靶材尺寸D56.8mm）		强磁设计，向心溅射，磁控靶与样品的距离90～110mm 可调，有良好的水冷且DC/RF/MF兼容
3"强磁控溅射靶（靶材尺寸D76.2mm）		强磁设计，向心溅射，磁控靶与样品的距离90～110mm 可调，有良好的水冷且DC/RF/MF兼容
射频切换器		设计1切换2的换挡档位功能（即1套电源可非同时供2套磁控溅射靶使用），换挡前后一般不需要调整电源除功率设定等之外的其它参数。
真空烘烤/除气		双加热器设计；功率：1200 W；安装法兰：CF35；给真空腔体快速除气，提高真空度；烘烤时间比烘烤炉和加热带短；
其他说明
产品认证		ISO9001认证、CE认证、UL认证
质保期		一年质保期，终身维修
应用注意事项		详情参阅说明书危险、警告、注意等条款
包装尺寸(W×D×H)
重量

北京帕托真空技术有限公司是一家集研发、生产、销售、服务于一体，以真空镀膜机、分子泵生产、辅材料销售、镀膜材料、配件、设备技术服务的综合性公司。公司主要从事各种真空镀膜机的技术服务，同时也为客户提供各种镀膜用材料、配件等，代理日本进口的灯丝及其他光学用材料。

北京帕托真空技术有限公司主营：真空获得设备和真空镀膜设备的生产制造和技术服务，提供真空设备所需的腔体（Chamber），分子泵等部件、真空系统的设计与加工；真空镀膜设备用备品备件及真空泵油等；提供电气控制类产品的设计、加工和调试；研发、生产和销售高端镀膜材料；提供进口镀膜设备的维修、维护保养和技术支持等服务。

北京帕托真空技术有限公司有非常专业的技术服务团队，客服人员均曾在知名品牌镀膜设备公司从事过多年的技术服务，积累了丰富的经验，在设备故障判断和处理上能有效做到准确快速地对应。在服务管理上，帕托真空针对不同的项目均有完善规范的操作流程，以不辜负客户的委托和信任。

北京帕托真空技术有限公司非常注重技术创新，立足于服务客户的宗旨，以优质服务满足客户的需求。本公司秉承“顾客至上，精益求精”的经营理念，坚持“客户第一”的原则为广大客户提供优质的服务。