基片升降旋转自动选片系统


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基片升降旋转自动选片系统

采用尖端设计在真正的超高真空条件下提供高温基板加热和调节。该设计用于诸如蒸发、MBE(分子束外延),溅射和CVD(化学气相沉积)的沉积应用。也可以进行基板退火,脱气等高温材料的修饰。特高真空设计独特的空心磁耦合技术,用户可选择各种应用和基板尺寸。