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箱体304L 不锈钢室或玻璃腔室： Φ300mm×415mm 高( 内部尺寸)该室根据系统配置标配最多五个备用端口真空测试运行到10 -8 Torr热蒸发（最多2 个独立金属蒸发舟）磁控溅射源（最多2..

技术参数： 1 本底真空：10-7 Torr； 2 单基片设计，尺寸可定制； 3 基片可旋转并加热：300℃/500℃/800℃； 4 溅射：1-3支磁控溅射靶枪，可共溅射； ..

ATTO3是经过验证的，坚固耐用的多功能设计标准方案。该系统可以手动和自动操作，具有广泛的沉积仪器选配，包括：射频和直流溅射源，低温有机蒸发器和金属蒸发器。还有许多系统选项可用，如石英晶体监测，高真..

适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作。OPV系列真空蒸发镀膜与手套箱联合系统的用户群体为科研院所及实..

Atto10是经过验证的，坚固耐用的多功能设计标准方案。该系统可以手动和自动操作，具有广泛的沉积仪器选配，包括：电子束蒸发器，射频和直流溅射源，低温有机蒸发器和金属蒸发器。还有许多系统选项可用，如&n..

适用于大多数研发应用磁控溅射源。间接冷却，夹紧式目标设计，集成阳极屏蔽组件，可以自调高低。适用于中低功率，研发和小规模生产应用。这些溅射阴极的尺寸范围从一到四英寸，可以使用任何材料，具有卓越的目标利用..

型号EVAP400S主真空室方形前开门结构，尺寸L×W×H:400×400×550mm进样室(选配)开门结构，尺寸约为ø200 X 300mm真空系统配置主真空室复合分子泵、机械泵、气动闸板阀进样室机..

功能特点：设备兼容有机/无机蒸发,可实现多元分蒸或共蒸获得多层膜、复合膜，性能稳定，尤其温控有机蒸发源不仅角度可调，均匀性好，同时可通过进口膜厚仪联动控制实现速率精确控制、掺杂；样品台可升降调整源-基..

功能特点箱体304L 不锈钢室： φ400mm ×H450mm 该室根据系统配置标配最多十个备用端口真空测试运行到10 -8 Torr热蒸发（最多4 个独立金属蒸发舟）磁控溅射源（最多4 个..

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