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基片冷却系统
基片冷却系统
基片冷却系统..
基片升降旋转自动选片系统
基片升降旋转自动选片系统
采用尖端设计在真正的超高真空条件下提供高温基板加热和调节。该设计用于诸如蒸发、MBE（分子束外延），溅射和CVD（化学气相沉积）的沉积应用。也可以进行基板退火，脱气等高温材料的修饰。特高真空设计独特的..
基片掩膜自动配选位系统
基片掩膜自动配选位系统
采用尖端设计在真正的超高真空条件下提供高温基板加热和调节。该设计用于诸如蒸发、MBE（分子束外延），溅射和CVD（化学气相沉积）的沉积应用。也可以进行基板退火，脱气等高温材料的修饰。特高真空设计独特的..
3英寸高真空磁控溅射靶
3英寸高真空磁控溅射靶
适用于大多数研发应用磁控溅射源。间接冷却，夹紧式目标设计，集成阳极屏蔽组件，可以自调高低。适用于中低功率，研发和小规模生产应用。这些溅射阴极的尺寸范围从一到四英寸，可以使用任何材料，具有卓越的目标利用..
真空烘烤灯／除气灯
真空烘烤灯／除气灯
技术参数： 1 双加热器设计； 2 功率：1200 W； 3 安装法兰：CF35； 4 给真空腔体快速除气，提高真空度； 5 烘烤时间比烘烤炉和加热带短；..
1500度电阻加热蒸发源及控制器
1500度电阻加热蒸发源及控制器
基片冷却系统
基片冷却系统
基片加热系统
基片加热系统
基片升降旋转自动选片系统
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基片掩膜自动配选位系统
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3英寸高真空磁控溅射靶
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真空烘烤灯／除气灯
真空烘烤灯／除气灯
超高真空圆形传样系统
超高真空圆形传样系统
真空镀膜控制软件CTRL2000
真空镀膜控制软件CTRL2000
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