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真空镀膜室描述不锈钢钟罩+304不锈钢真空室底座尺寸: Φ300×H450mm；体积0.03m³极限真空≤6. 67x10-5pa （2×10-7Torr） (经烘烤除气后）恢复真空时间≤6.67X1..
箱体304L 不锈钢室或玻璃腔室： Φ300mm×415mm 高( 内部尺寸)该室根据系统配置标配最多五个备用端口真空测试运行到10 -8 Torr热蒸发（最多2 个独立金属蒸发舟）磁控溅射源（最多2..
真空镀膜室描述玻璃钟罩+304不锈钢真空室底座尺寸: Φ300×H450mm；体积0.03m³极限真空≤6. 67x10-5pa （2×10-7Torr） (经烘烤除气后）恢复真空时间≤6.67X10..
ATTO3是经过验证的，坚固耐用的多功能设计标准方案。该系统可以手动和自动操作，具有广泛的沉积仪器选配，包括：射频和直流溅射源，低温有机蒸发器和金属蒸发器。还有许多系统选项可用，如 石英晶体监测，高真..
ATTO3是经过验证的，坚固耐用的多功能设计标准方案。该系统可以手动和自动操作，具有广泛的沉积仪器选配，包括：射频和直流溅射源，低温有机蒸发器和金属蒸发器。还有许多系统选项可用，如 石英晶体监测，高真..
真空镀膜室描述材料：不锈钢1.4301 (SUS type 304), 厚度 5mm，所有焊缝连接均采用氩弧自动焊接技术；内表面镜面抛光，外表面三项处理。尺寸: Φ400×H450mm；体积0.056..
Atto10是经过验证的，坚固耐用的多功能设计标准方案。该系统可以手动和自动操作，具有广泛的沉积仪器选配，包括：电子束蒸发器，射频和直流溅射源，低温有机蒸发器和金属蒸发器。还有许多系统选项可用，如&n..
适用于大多数研发应用磁控溅射源。间接冷却，夹紧式目标设计，集成阳极屏蔽组件，可以自调高低。适用于中低功率，研发和小规模生产应用。这些溅射阴极的尺寸范围从一到四英寸，可以使用任何材料，具有卓越的目标利用..
真空镀膜室描述玻璃钟罩+304不锈钢真空室底座尺寸: Φ300×H450mm；体积0.03m³极限真空≤6. 67x10-5pa （2×10-7Torr） (经烘烤除气后）恢复真空时间≤6.67X10..
真空镀膜室描述玻璃钟罩+304不锈钢真空室底座尺寸: Φ300×H450mm；体积0.03m³极限真空≤6. 67x10-5pa （2×10-7Torr） (经烘烤除气后）恢复真空时间≤6.67X10..
真空镀膜室描述材料：不锈钢1.4301 (SUS type 304), 厚度 5mm，所有焊缝连接均采用氩弧自动焊接技术；内表面镜面抛光，外表面三项处理。尺寸: 400mm×400mm×H450mm；..
适用于大多数研发应用磁控溅射源。间接冷却，夹紧式目标设计，集成阳极屏蔽组件，可以自调高低。适用于中低功率，研发和小规模生产应用。这些溅射阴极的尺寸范围从一到四英寸，可以使用任何材料，具有卓越的目标利用..
1. 溅射室极限真空度：≤6.6×10-6 Pa2. 系统真空检漏漏率：≤5.0×10-7Pa.l/S3. 系统从大气开始抽气：溅射室30分钟可达到6.6×10-4 Pa；4. 系..
坚固耐用的多功能设计标准方案。该系统可以手动和自动操作，具有广泛的沉积仪器选配，包括：射频和直流溅射源，低温有机蒸发器和金属蒸发器。还有许多系统选项可用，如 石英晶体监测，高真空负载锁和加热，冷却，旋..
型号EVAP400S主真空室方形前开门结构，尺寸L×W×H:400mm×400mm×450mm真空系统配置主真空室复合分子泵、机械泵、气动闸板阀极限压力主真空室≤6. 67x10-5pa(经烘烤除气后..
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