搜索 - 标签 - 电阻蒸发镀膜机

搜索标准

在子分类中检索

在商品描述中检索

符合搜索标准的商品

技术参数：1 本底真空：10-7 Torr；2 单基片设计，尺寸可定制；3 基片可旋转并加热：300℃/500℃/800℃；4 溅射：1-3支磁控溅射靶枪，可共溅射；5 电子束蒸发：4-6坩..

技术参数： 1 本底真空：10-7 Torr； 2 单基片设计，尺寸可定制； 3 基片可旋转并加热：300℃/500℃/800℃； 4 溅射：1-3支磁控溅射靶枪，可共溅射； ..

手动系统适用于本科生教学，研究生科研训练，也可以应用于科研工作。该款设备适用于磁控溅射，也可以装配电子束蒸发，热蒸发源等，用户可根据需求来选择配备。..

适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作。OPV系列真空蒸发镀膜与手套箱联合系统的用户群体为科研院所及实..

ATTO3是经过验证的，坚固耐用的多功能设计标准方案。该系统可以手动和自动操作，具有广泛的沉积仪器选配，包括：射频和直流溅射源，低温有机蒸发器和金属蒸发器。还有许多系统选项可用，如石英晶体监测，高真..

功能特点箱体304L 不锈钢室：φ400mm×H450mm该室根据系统配置标配最多十个备用端口真空测试运行到10 -8 Torr热蒸发（最多4 个独立金属蒸发舟）磁控溅射源（最多4 个 2"，3" 源..

功能特点箱体304L 不锈钢室： φ400mm ×H450mm 该室根据系统配置标配最多十个备用端口真空测试运行到10 -8 Torr热蒸发（最多4 个独立金属蒸发舟）磁控溅射源（最多4 个..

功能特点：设备兼容有机/无机蒸发,可实现多元分蒸或共蒸获得多层膜、复合膜，性能稳定，尤其温控有机蒸发源不仅角度可调，均匀性好，同时可通过进口膜厚仪联动控制实现速率精确控制、掺杂；样品台可升降调整源-基..

显示 1 到 13 总计 13 (共 1 页)