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基片掩膜自动配选位系统
基片掩膜自动配选位系统
采用尖端设计在真正的超高真空条件下提供高温基板加热和调节。该设计用于诸如蒸发、MBE（分子束外延），溅射和CVD（化学气相沉积）的沉积应用。也可以进行基板退火，脱气等高温材料的修饰。特高真空设计独特的..
基片掩膜自动配选位系统
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