您的购物车没有添加商品！
通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为热蒸发镀膜，热蒸发镀膜技术是历史最悠久的PVD镀膜技术之一。热蒸发镀膜机一般主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。
在高真空下，采用电阻式蒸发原理，利用大电流在蒸发舟上加热所蒸镀材料，使其在高温下熔化蒸发，从而在样品上沉积所需要的薄膜。通过调节所加电流的大小，可以方便的控制镀膜材料的蒸发速率。通常适合熔点低于1500oC的金属薄膜的制备。
技术参数：1 本底真空：10-7 Torr；2 单基片设计，尺寸可定制；3 基片可旋转并加热：300℃/500℃/800℃；4 溅射：1-3支磁控溅射靶枪，可共溅射；5 电子束蒸发：4-6坩..
技术参数：
1 本底真空：10-7 Torr；
2 单基片设计，尺寸可定制；
3 基片可旋转并加热：300℃/500℃/800℃；
4 溅射：1-3支磁控溅射靶枪，可共溅射；
..
适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作。OPV系列真空蒸发镀膜与手套箱联合系统的用户群体为科研院所及实..
ATTO3是经过验证的，坚固耐用的多功能设计标准方案。该系统可以手动和自动操作，具有广泛的沉积仪器选配，包括：射频和直流溅射源，低温有机蒸发器和金属蒸发器。还有许多系统选项可用，如 石英晶体监测，高真..
ATTO3是经过验证的，坚固耐用的多功能设计标准方案。该系统可以手动和自动操作，具有广泛的沉积仪器选配，包括：射频和直流溅射源，低温有机蒸发器和金属蒸发器。还有许多系统选项可用，如 石英晶体监测，高真..
ATTO3是经过验证的，坚固耐用的多功能设计标准方案。该系统可以手动和自动操作，具有广泛的沉积仪器选配，包括：射频和直流溅射源，低温有机蒸发器和金属蒸发器。还有许多系统选项可用，如 石英晶体监测，高真..
ATTO3是经过验证的，坚固耐用的多功能设计标准方案。该系统可以手动和自动操作，具有广泛的沉积仪器选配，包括：射频和直流溅射源，低温有机蒸发器和金属蒸发器。还有许多系统选项可用，如 石英晶体监测，高真..
ATTO3是经过验证的，坚固耐用的多功能设计标准方案。该系统可以手动和自动操作，具有广泛的沉积仪器选配，包括：射频和直流溅射源，低温有机蒸发器和金属蒸发器。还有许多系统选项可用，如 石英晶体监测，高真..
ATTO3是经过验证的，坚固耐用的多功能设计标准方案。该系统可以手动和自动操作，具有广泛的沉积仪器选配，包括：射频和直流溅射源，低温有机蒸发器和金属蒸发器。还有许多系统选项可用，如 石英晶体监测，高真..
功能特点箱体304L 不锈钢室：φ400mm×H450mm该室根据系统配置标配最多十个备用端口真空测试运行到10 -8 Torr热蒸发（最多4 个独立金属蒸发舟）磁控溅射源（最多4 个 2"，3" 源..
功能特点箱体304L 不锈钢室： φ400mm ×H450mm 该室根据系统配置标配最多十个备用端口真空测试运行到10 -8 Torr热蒸发（最多4 个独立金属蒸发舟）磁控溅射源（最多4 个..
功能特点：设备兼容有机/无机蒸发,可实现多元分蒸或共蒸获得多层膜、复合膜，性能稳定，尤其温控有机蒸发源不仅角度可调，均匀性好，同时可通过进口膜厚仪联动控制实现速率精确控制、掺杂；样品台可升降调整源-基..
功能特点：设备兼容有机/无机蒸发,可实现多元分蒸或共蒸获得多层膜、复合膜，性能稳定，尤其温控有机蒸发源不仅角度可调，均匀性好，同时可通过进口膜厚仪联动控制实现速率精确控制、掺杂；样品台可升降调整源-基..
显示 1 到 14 总计 14 (共 1 页)
