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设备用途：该设备用于制备多组份、多层复合的致密的金属/非金属、金属氧化物/氮化物/氮氧化合物、非金属氧化物/氮化物/氮氧化合物等厚度均匀的薄膜材料，其中靶材可为金属/非金属的单组份或多组份材料（包含磁..
对传统热蒸发技术难以实现的材料蒸发，可采用电子束蒸发(E-beam
Evaporation)的方式来实现。不同于传统的辐射加热和电阻丝加热，高能电子束轰击可实现超过3000℃的局域高温，这使..
