Mop350双靶磁控溅射仪

1、配置两个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。
2、可制备多种薄膜,应用广泛。
3、体积小,操作简便。



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北京帕托真空技术有限公司是一家集研发、生产、销售、服务于一体,以真空镀膜机、分子泵生产、辅材料销售、镀膜材料、配件、设备技术服务的综合性公司。公司主要从事各种真空镀膜机的技术服务,同时也为客户提供各种镀膜用材料、配件等,代理日本进口的灯丝及其他光学用材料。

北京帕托真空技术有限公司主营:真空获得设备和真空镀膜设备的生产制造和技术服务,提供真空设备所需的腔体(Chamber),分子泵等部件、真空系统的设计与加工;真空镀膜设备用备品备件及真空泵油等;提供电气控制类产品的设计、加工和调试;研发、生产和销售高端镀膜材料;提供进口镀膜设备的维修、维护保养和技术支持等服务。

北京帕托真空技术有限公司有非常专业的技术服务团队,客服人员均曾在知名品牌镀膜设备公司从事过多年的技术服务,积累了丰富的经验,在设备故障判断和处理上能有效做到准确快速地对应。在服务管理上,帕托真空针对不同的项目均有完善规范的操作流程,以不辜负客户的委托和信任。

北京帕托真空技术有限公司非常注重技术创新,立足于服务客户的宗旨,以优质服务满足客户的需求。本公司秉承“顾客至上,精益求精”的经营理念,坚持“客户第一”的原则为广大客户提供优质的服务。

Mop350双靶磁控溅射仪

Mop350双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。Mop350双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪和两个电源,一个射频电源用于非导电材料的溅射镀膜,一个直流电源用于导电材料的溅射镀膜,可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,且具有体积小便于操作的优点,且可使用的材料范围广,是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。

1、电源电压:220V  50Hz
2、功率:900W
3、腔体内径:Ø300mm
4、极限真空度:6.0×10-5Pa
5、样品台加热温度:RT-500℃,精度±1℃(可根据实际需要提升温度)
6、靶枪数量:2个(可选配其他数量)
7、靶枪冷却方式:水冷
8、靶材尺寸:Ø2″,厚度0.1-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同)
9、直流溅射功率:500W;射频溅射功率:300W。(靶电源种类可选,可选择两个直流电源,也可选择两个射频电源,或选则一个直流一个射频电源)
10、载样台:Ø140mm,可根据客户需求选配加装偏压功能,以实现更高质量的镀膜。
11、载样台转速:1rpm-20rpm内可调
12、工作气体:Ar等惰性气体
13、进气气路:质量流量计控制2路进气,一路为100SCCM,另一路为200SCCM。