采用 “分子泵+机械泵”高真空系统:

规格：旋片真空泵,  配带油雾过滤器, 带气镇控制

流量：36 m³/h (21 cfm), 双基片,真空度< 2 x 10^-3 mbar  或干泵(可供选择)

* 可选配干式真空泵

从大气抽至9×10^-4Pa≤30min（短时间暴露大气，冲入干燥氮气后开始抽气）

前级阀/旁路阀：GDQ-40高真空气动挡板阀；

“两低一高”（两只电阻规测量低真空，一只电离规测量高真空） 数显复合真空计，测量范围从1×10⁵Pa到1×10^-5Pa；由PC显示和控制，可实现操作互锁联动。

* 可选配进口宽量程真空变送器

部分采用金属密封，部分采用氟橡胶圈密封；

采用有机升华束源炉，每支蒸料可装 5CC，上部有挡热板，防止蒸发舟热量向上辐射，蒸发源之间设有防温度干扰装置（方便取放，方便清洗维护）。

2台

0~800W

2台

能够有效解决镀膜的准确、稳定和可靠性。

完善的程序互锁，完备的防误操作设计及保护；系统缺水、过流过压等异常情况进行报警并执行相应保护措施。

采用丰富I/O接口设计，充分满足扩展与外连设备的功能需求。

显示控制镀膜机的舱门开启/关闭。

镀膜工艺、工序、膜厚，方便并且保存打印。

镀膜工艺、工序、膜厚设置均在PC上，可实现全过程自动化控制，可在PC上设定镀膜工艺，记录数据。

冷却水路8进8出，总进水采用水压继电器控制。

总进水与出水接1P制冷循环水机，控温范围10–25 ℃。给靶、金属源、分子泵、磁流体提供稳定的制冷循环水，保证设备稳定运行。

冷却水路8进8出，总进水采用水压继电器控制。

总进水与出水接1P制冷循环水机，控温范围10–25 ℃。给金属源、分子泵、磁流体提供稳定的制冷循环水，保证设备稳定运行。

ISO9001认证、CE认证、UL认证