ATTO3-S 高真空磁控溅射镀膜机
ATTO3-S 高真空磁控溅射镀膜机

ATTO3-S 高真空磁控溅射镀膜机

咨询电话：400-096-8156
手机热线：138-1149-5691

北京帕托真空技术有限公司是一家集研发、生产、销售、服务于一体，以真空镀膜机、分子泵生产、辅材料销售、镀膜材料、配件、设备技术服务的综合性公司。公司主要从事各种真空镀膜机的技术服务，同时也为客户提供各种镀膜用材料、配件等，代理日本进口的灯丝及其他光学用材料。

北京帕托真空技术有限公司主营：真空获得设备和真空镀膜设备的生产制造和技术服务，提供真空设备所需的腔体（Chamber），分子泵等部件、真空系统的设计与加工；真空镀膜设备用备品备件及真空泵油等；提供电气控制类产品的设计、加工和调试；研发、生产和销售高端镀膜材料；提供进口镀膜设备的维修、维护保养和技术支持等服务。

北京帕托真空技术有限公司有非常专业的技术服务团队，客服人员均曾在知名品牌镀膜设备公司从事过多年的技术服务，积累了丰富的经验，在设备故障判断和处理上能有效做到准确快速地对应。在服务管理上，帕托真空针对不同的项目均有完善规范的操作流程，以不辜负客户的委托和信任。

北京帕托真空技术有限公司非常注重技术创新，立足于服务客户的宗旨，以优质服务满足客户的需求。本公司秉承“顾客至上，精益求精”的经营理念，坚持“客户第一”的原则为广大客户提供优质的服务。

ATTO3-S 高真空磁控溅射镀膜机

真空镀膜室

描述

玻璃钟罩+304不锈钢真空室底座

尺寸: Φ300×H450mm；

体积0.03m³

极限真空

≤6. 67x10-5pa （2×10-7Torr） (经烘烤除气后）

恢复真空时间

≤6.67X10-4 pa(经烘烤除气后）

泄漏率

检漏依据GB T 32218-2015对箱体进行检测，≤1x10-10PaL/s的标准进行最终验收测试。

真空系统
描述

采用 “分子泵+机械泵”高真空系统:

分子泵抽速：1200L/S，真正的准无油真空系统，采用下抽气，避免了分子泵的抽气弱点，提高了抽速；分子泵保修5年，提供损坏直接换新服务。
 * 可选择进口分子泵
真空泵

规格：旋片真空泵,  配带油雾过滤器, 带气镇控制

流量：36 m³/h (21 cfm), 双基片,真空度-3 mbar  或干泵(可供选择)

* 可选配干式真空泵

工作电压AC 230 V / 50-60 Hz, 10 A 或AC 115 V / 50-60 Hz, 20 A （可供选择）
抽速

从大气抽至9×10-4Pa≤30min（短时间暴露大气，冲入干燥氮气后开始抽气）

阀门

主阀：CC-200,高真空电气联动插板阀；

前级阀/旁路阀：GDQ-40高真空气动挡板阀；

真空测量

“两低一高”（两只电阻规测量低真空，一只电离规测量高真空） 数显复合真空计，测量范围从1×105Pa到1×10-5Pa；由PC显示和控制，可实现操作互锁联动。

* 可选配进口宽量程真空变送器

真空测量

部分采用金属密封，部分采用氟橡胶圈密封；

2"永磁磁控溅射靶
               (靶材尺寸直径50.8mm)

结构

向心溅射，磁控靶与样品的距离90～140mm 可调，各靶有良好的水冷且DC/RF/MF兼容；

电动控制挡板组件：1套

配有屏蔽罩，以避免靶材之间的交叉污染(非共溅时安装使用)；

可折向上面的样品中心，靶与样品距离可调；

数量

2台

控制系统
描述采用windows操作平台和cotrl2000控制系统，采用IPC+network技术，实现整机主要部件的参数化设置、实施实时监控及故障智能诊断以及膜厚全自动监控，有自动和手动控制两种模式。除取放样品外，其它操作过程全部在PC上使用软件控制；提供真空系统、工艺设置、充放气系统等友好人机操作界面；在工控机上可通过配方设置参数，实现对程序工艺过程和设备参数的设置、储存和打印。
特点

能够有效解决镀膜的准确、稳定和可靠性。

完善的程序互锁，完备的防误操作设计及保护；系统缺水、过流过压等异常情况进行报警并执行相应保护措施。

采用丰富I/O接口设计，充分满足扩展与外连设备的功能需求。

显示控制镀膜机的舱门开启/关闭。

镀膜工艺、工序、膜厚，方便并且保存打印。

膜厚监测、控制系统

描述采用石英晶振膜厚控制仪，水冷膜厚探头安装在基片台附近，工控机连接。膜厚仪用以实时监测镀膜速率和终厚，精度可达±1A（0.1nm）,实时信息反馈给工控机 ,若镀膜达到设置厚度,可自动控制电源,停止镀膜,实现自控膜厚之目的。
范围监测厚度范围：1Å～99µ9999Å，分辨率1Å；监测速率范围：0.1Å～9999.9Å.S/s，分辨率0.1Å

特点

镀膜工艺、工序、膜厚设置均在PC上，可实现全过程自动化控制，可在PC上设定镀膜工艺，记录数据。

水冷系统

描述

冷却水路8进8出，总进水采用水压继电器控制。

总进水与出水接1P制冷循环水机，控温范围10–25 ℃。给靶、金属源、分子泵、磁流体提供稳定的制冷循环水，保证设备稳定运行。

选配设备

3"永磁控溅射靶（靶材尺寸D76.2mm）向心溅射，磁控靶与样品的距离90～110mm 可调，有良好的水冷且DC/RF/MF兼容
2"强磁控溅射靶（靶材尺寸D56.8mm）强磁设计，向心溅射，磁控靶与样品的距离90～110mm 可调，有良好的水冷且DC/RF/MF兼容
3"强磁控溅射靶（靶材尺寸D76.2mm）强磁设计，向心溅射，磁控靶与样品的距离90～110mm 可调，有良好的水冷且DC/RF/MF兼容
射频切换器设计1切换2的换挡档位功能（即1套电源可非同时供2套磁控溅射靶使用），换挡前后一般不需要调整电源除功率设定等之外的其它参数。
其他说明
产品认证

ISO9001认证、CE认证、UL认证

质保期一年质保期，终身维修
应用注意事项详情参阅说明书危险、警告、注意等条款
包装尺寸(W×D×H) 
重量 


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