ATTO10-EG高真空电子枪镀膜及手套箱系统

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详情技术参数关于帕托真空

箱体
描述	材料：不锈钢1.4301 (SUS type 304), 厚度 3 mm 尺寸: 1200mm(L) x 750mm(W) x 900mm(H)
体积	0.8 m³
前窗	面板：8 mm厚安全钢化玻璃或 10 mm厚度聚碳酸酯 (可供选择) 尺寸：1123mm(L) x 839mm(H)
手套口	硬铝合金材质或聚甲醛材料 (可供选择) 口径 220 mm, O型圈密封
手套	材料：丁基橡胶厚度： 0.4 mm 或 0.8mm(可供选择)
过滤器	出口和入口过滤器，过滤<0.3μm
照明	LED照明位于前窗顶上部
泄漏率	检漏依据 ISO 10648-2 ：1994 / EJ/T 1096-1999《密封箱室——第二部分：密封性分级以及相关的检验方法》中的含氧法和压力变化法对箱体进行检测，按照一级密封性< 0.05 vol%/h的标准进行最终验收测试。
GP20气体净化系统（一体或分体）
描述	自动去除 H₂O 和 O₂ 单净化柱系统，自动再生（可选GP200双净化柱）密闭的气体循环管路
使用电压	AC 230 V / 50-60 Hz, 10 A 或AC 115 V / 50-60 Hz, 20 A （可供选择）
工作气体	工作气：N2、Ar 、He（纯度≥99.999%）再生气：H₂占5%—10%，其余的为工作气（纯度≥99.999%）
真空泵	规格：旋片真空泵, 配带油雾过滤器, 带气镇控制流量：12 m³/h (7 cfm), 双基片,真空度< 2 x 10^-3 mbar 或干泵(可供选择)
循环单元	无油高速风机风量：80 m³/h
阀门	KF40 高真空阀门
泄漏率	检漏依据 ISO 10648-2 ：1994 / EJ/T 1096-1999《密封箱室——第二部分：密封性分级以及相关的检验方法》中的含氧法和压力变化法对箱体进行检测，按照1级密封性< 0.05 vol%/h的标准进行最终验收测试。
控制柜尺寸	600mm（L） x 800mm（D） x 870mm（H）
过渡舱
大过渡舱	材料	不锈钢 type 304 (1.4301), 厚度 3 mm
尺寸	φ360mmx600mm(L) 或φ390mmx600mm(L)(可供选择)
真空度	< 1 x 10^-2 mbar
小过渡舱	材料	不锈钢 type 304 (1.4301), 厚度 2 mm
尺寸	φ150mm x 330mm(L)
真空度	< 1 x 10^-2 mbar
清洗系统
描述	设置好相应时间和压力，系统可以对箱体自动进行气体置换。
分析仪
氧气分析仪	尺寸	205 mm（L） x 80 mm（W） x 60 mm（H）
测量范围	0-1000 ppm
其他氧分析仪	GE oxy.IQ™ Oxygen Transmitter
水分分析仪	尺寸	205 mm（L） x 80 mm（W） x 60 mm（H）
测量范围	0-500 ppm
其他水分析仪	GE VeriDri™ Dew-Point Transmitter
溶剂净化系统
描述	材料: 不锈钢1.4301 (SUS type 304), 厚度 3 mm 内部尺寸: 220mm(Φ) x 450mm(H) 优质活性炭
选配设备
冰箱	独立控制系统，集成在箱体侧板，温度-35℃，容积18L或32L可选主体304不锈钢板材，5层可变隔层 R404环保型制冷剂，原装进口
加热舱	大过渡配置加热系统，温度为200℃，控温±1℃

真空镀膜室
描述	材料：不锈钢1.4301 (SUS type 304), 厚度 5mm，所有焊缝连接均采用氩弧自动焊接技术；内表面镜面抛光，外表面三项处理。尺寸: Φ400×H450mm；
体积	0.056m³
观察窗	门上配备玻璃观察窗（含防污染挡板），方便观察工作时的工作情况。符合X射线防护国家标准
极限真空	≤6. 67x10^-5pa （2×10-7Torr） (经烘烤除气后）
恢复真空时间	≤6.67X10^-4 pa(经烘烤除气后）
接口	标准接口三个(φ200)，拓展安装分子泵和插板阀用；
预留标准接口四个（CF35），拓展功能用；
照明	LED照明位于真空室侧部，方便观察真空室内部
泄漏率	检漏依据GB T 32218-2015对箱体进行检测，≤1x10-10PaL/s的标准进行最终验收测试。
真空系统
描述	采用 “分子泵+机械泵”高真空系统:
分子泵	抽速：1200L/S，真正的准无油真空系统，采用下抽气，避免了分子泵的抽气弱点，提高了抽速；分子泵保修5年，提供损坏直接换新服务。 * 可选择进口分子泵
真空泵	规格：旋片真空泵, 配带油雾过滤器, 带气镇控制流量：36 m³/h (21 cfm), 双基片,真空度< 2 x 10^-3 mbar 或干泵(可供选择) * 可选配干式真空泵
工作电压	AC 230 V / 50-60 Hz, 10 A 或AC 115 V / 50-60 Hz, 20 A （可供选择）
抽速	从大气抽至9×10^-4Pa≤30min（短时间暴露大气，冲入干燥氮气后开始抽气）
阀门	主阀：CC-200,高真空电气联动插板阀；前级阀/旁路阀：GDQ-40高真空气动挡板阀；
真空测量	“两低一高”（两只电阻规测量低真空，一只电离规测量高真空）数显复合真空计，测量范围从1×10⁵Pa到1×10^-5Pa；由PC显示和控制，可实现操作互锁联动。 * 可选配进口宽量程真空变送器
真空测量	部分采用金属密封，部分采用氟橡胶圈密封；
基片台
描述	放置样品的载物台采用304不锈钢制造，基片置于蒸发源正上方(全自动升降功能)，根据基片尺寸设计工装，方便用户固定样品。可定制一体化高精度刻蚀掩膜板；
旋转	采用步进电机控制驱动旋转，磁流体密封，电机和磁流体同轴，不会产生丢转、爬行等情况，步进电机控制精确，转速范围0-30rpm连续可调；
升降	采用步进电机控制驱动旋转，磁流体密封，控制精确，高度范围0-100mm连续可调；
掩膜	抽屉式结构，承载最大小于120×120mm 样品，配日本SMC气动基片挡板，电气联动全自动控制。
镀膜源
电子枪	电压	阴极电压8KV, 阴极加热电源AC 3V+3V， 60A可调
坩埚	束流间冷坩埚0 ～ 500mA，直冷坩埚0 ～ 1A 坩埚容量为6 孔间冷4×17mL，6 孔直冷 4×22mL，环形直冷 85mL 坩埚定位( 四孔坩埚) 为电控自动或手动点控坩埚冷却水进水温度≤ 25℃，进水压力≥ 0.2MPa，水流量≥ 8L/min
数量	1台
控制系统
描述	采用windows操作平台和cotrl2000控制系统，采用IPC+network技术，实现整机主要部件的参数化设置、实施实时监控及故障智能诊断以及膜厚全自动监控，有自动和手动控制两种模式。除取放样品外，其它操作过程全部在PC上使用软件控制；提供真空系统、工艺设置、充放气系统等友好人机操作界面；在工控机上可通过配方设置参数，实现对程序工艺过程和设备参数的设置、储存和打印。
特点	能够有效解决镀膜的准确、稳定和可靠性。完善的程序互锁，完备的防误操作设计及保护；系统缺水、过流过压等异常情况进行报警并执行相应保护措施。采用丰富I/O接口设计，充分满足扩展与外连设备的功能需求。显示控制镀膜机的舱门开启/关闭。镀膜工艺、工序、膜厚，方便并且保存打印。
膜厚监测、控制系统
描述	采用石英晶振膜厚控制仪，水冷膜厚探头安装在基片台附近，工控机连接。膜厚仪用以实时监测镀膜速率和终厚，精度可达±1A（0.1nm）,实时信息反馈给工控机 ,若镀膜达到设置厚度,可自动控制电源,停止镀膜,实现自控膜厚之目的。
范围	监测厚度范围：1Å～99µ9999Å，分辨率1Å；监测速率范围：0.1Å～9999.9Å.S/s，分辨率0.1Å
特点	镀膜工艺、工序、膜厚设置均在PC上，可实现全过程自动化控制，可在PC上设定镀膜工艺，记录数据。
水冷系统
描述	冷却水路8进8出，总进水采用水压继电器控制。总进水与出水接1P制冷循环水机，控温范围10–25 ℃。给靶、金属源、分子泵、磁流体提供稳定的制冷循环水，保证设备稳定运行。
其他说明
产品认证	ISO9001认证、CE认证、UL认证
质保期	一年质保期，终身维修
应用注意事项	详情参阅说明书危险、警告、注意等条款
包装尺寸(W×D×H)
重量

ATTO10-EG高真空电子枪镀膜及手套箱系统

配套标准单工位手套箱净化保护系统

超低含量水氧≤0.1ppm

电磁阀模块化设计，泄漏率更低、更换更方便

闭合气体循环、无油和真空

阴极电压6KV-15KV,阴极加热电源AC 3V+3V， 60A 可调

束流间冷坩埚0～500mA，直冷坩埚0～1A

坩埚容量为4孔间冷4×17mL，4孔直冷 4×22mL，环形直冷 85mL

磁场电源X偏转电流 ±2A可调,扫描频率10～250Hz;Y偏转电流 ±2A可调,扫描频率10～250Hz

启动真空度6.7×10-3 Pa

坩埚定位(四孔坩埚)为电控自动或手动点控

坩埚冷却水进水温度≤25℃，进水压力≥0.2MPa，水流量≥8L/min

电子枪体接地电阻≤4Ω

标签: atto10-eg高真空电子枪镀膜及手套箱系统, 电子束蒸发镀膜机

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