3英寸高真空磁控溅射靶


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1、PVD沉积
2、金属涂层
3、纳米结构薄膜
4、多层镀层
5、反应溅射
6、射频溅射,直流溅射,脉冲直流溅射
7、硬质涂层

型号

TSS-3

描述

采用高质量的不锈钢和陶瓷材料制作
采用电磁场的有元计算法来设计永磁体,以得到较高的磁场强度和均强场分布
磁体外露,以防止冷却水的腐蚀,延长其使用寿命
标准的HN型接头,可与DC和RF电源相匹配
安装是采用标准真空接头,便于操作
更换靶材较为简单,无需调整溅射头的高度

所需功率

DC(最大)1000W
RF(最大)500W

最大溅射电流

3A

溅射电压

100-1000 V

溅射时腔体真空度

5-100 mTorr

靶材

直径: 3.0英寸(76.2mm)                      
厚度: 对于非磁性靶材,最大厚度为1/8英寸      对于磁性靶材,最大厚度为1/16英寸                  
靶材利用率:30% 磁
铁:NdFeB 稀土磁铁板。

冷却水

流速:   0.8 GPM                      
进水温度:<20 ℃                  
水管:0.25" OD.

*可选部件

当同时购买300W射频发射器和2英寸磁控溅射头时,随机会赠送一高真空快速接头 此快速接头的内径为0.75英寸,可将溅射头安装在真空腔体上,真空腔体上的安装孔直径为1英寸,真空腔体的壁厚不得大于1英寸                      
循环水冷机,流量为16L / min ,水箱容积为6L。

质保

一年质保期,终生维护

1、可以做直流和射频溅射;
2、可以溅射磁性及非磁性材料;
3、模块化磁场排布;
4、冷却水和磁铁不直接接触;
5、100%超高真空(UHV)应用;
6、不需要拆卸可直接烤到200摄氏度。
7、水冷时不会存在水汽
8、工作压力范围宽(0.5-1Torr)。
9、有较高的溅射速率和沉积均匀性。
10、高强度磁体应用于磁性材料

1、+/- 45°倾斜装置。
2、原位倾斜装置。
3、集成在靶上的气环。
4、圆锥形靶罩,用于非轴向溅射。
5、超高真空Z轴手动移动和气动挡板。
6、复合法兰。
7、其它特殊要求。

北京帕托真空技术有限公司是一家集研发、生产、销售、服务于一体,以真空镀膜机、分子泵生产、辅材料销售、镀膜材料、配件、设备技术服务的综合性公司。公司主要从事各种真空镀膜机的技术服务,同时也为客户提供各种镀膜用材料、配件等,代理日本进口的灯丝及其他光学用材料。

北京帕托真空技术有限公司主营:真空获得设备和真空镀膜设备的生产制造和技术服务,提供真空设备所需的腔体(Chamber),分子泵等部件、真空系统的设计与加工;真空镀膜设备用备品备件及真空泵油等;提供电气控制类产品的设计、加工和调试;研发、生产和销售高端镀膜材料;提供进口镀膜设备的维修、维护保养和技术支持等服务。

北京帕托真空技术有限公司有非常专业的技术服务团队,客服人员均曾在知名品牌镀膜设备公司从事过多年的技术服务,积累了丰富的经验,在设备故障判断和处理上能有效做到准确快速地对应。在服务管理上,帕托真空针对不同的项目均有完善规范的操作流程,以不辜负客户的委托和信任。

北京帕托真空技术有限公司非常注重技术创新,立足于服务客户的宗旨,以优质服务满足客户的需求。本公司秉承“顾客至上,精益求精”的经营理念,坚持“客户第一”的原则为广大客户提供优质的服务。

3英寸高真空磁控溅射靶

适用于大多数研发应用磁控溅射源。间接冷却,夹紧式目标设计,集成阳极屏蔽组件,可以自调高低。适用于中低功率,研发和小规模生产应用。这些溅射阴极的尺寸范围从一到四英寸,可以使用任何材料,具有卓越的目标利用率,并且可以由RF,DC 或脉冲直流电源驱动。